Jóval gyorsabb és erősebb csontosodási folyamatot eredményezhet az a forradalmian új bevonat, melyet az Ohio Állami Egyetem kutatócsoportja fejlesztett ki. Nem csak fogászati, hanem más területeken is használatos implantátumok esetében akár 80 százalékkal gyorsabb sejtnövekedés érhető el az új típusú, nanohuzalos felülettel.
Ahogy arról a Dental Tribune online szaklap augusztus elején beszámolt, az Ohio Állami Egyetem szakembereinek különböző gázok és kémiai anyagok magas hőfokú oxidációjával sikerült megalkotnia az említett nanohuzalos felületet. 700 °C körüli hőmérsékletre volt szükség ahhoz, hogy a sima titánfelületből vékony titándioxid szálak emelkedjenek ki, ráadásul a folyamat során minden szál alumíniumdioxidos védőréteget hozott létre maga körül – utóbbi folyamatot egyelőre a szakértők sem értik, hiszen a kísérletben tiszta titánnal dolgoztak.
Az Egyetem Anyagtudományi és Mérnöki Karának professzora, Dr. Sheikh A. Akbar elmondta, további mikroszkopikus vizsgálatokra lesz szükség a folyamat alaposabb megértéséhez.
Ami azonban bizonyos, hogy ez az új, különleges felület jóval hatékonyabban képes beépülni az emberi szervezetbe, mint az eddig használt típusok.
Megfigyeléseik során sima titán felületet, sima titándioxid felületet és az új nanohuzalos felületet hasonlították össze. Az új kialakítású felületen és kifejezetten az apró huzalok mentén már az első tizenöt órában megnövekedett sejttapadást és sejtburjánzást tapasztaltak, ami a vizsgálat végére 80 százalékkal túlszárnyalta az eddig használatos felületeken mért sejtnövekedést.
Az orvostudományban használatos implantátumok hatékonyabbá tétele nagyban elősegíti a betegek rehabilitációjának gyorsaságát és sikerességét. Nem csak a fogászatban, de a sebészet más ágaiban is nagy hasznát vehetik az új felületkialakításnak, ráadásul az előállítása egyszerű és költséghatékony.